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CCD火花直讀光譜儀（落地式）
產(chǎn)品簡介
創(chuàng)想-德譜CX-9800（L）落地式全譜直讀光譜分析儀是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù)生產(chǎn),是目前先進(jìn)的國際公認(rèn)的第二代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。儀器體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
技術(shù)優(yōu)勢：
技術(shù)優(yōu)勢：
1、世界先進(jìn)的第二代CCD全譜光譜制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道可不受限制 ；
2、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同國際光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)首家能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商；
3、采用真空型恒溫光室，穩(wěn)定、可靠、免維護(hù)；不再采用小型雙光室設(shè)計解決長短波元素的技術(shù)問題；
3、采用真空型恒溫光室，穩(wěn)定、可靠、免維護(hù)；不再采用小型雙光室設(shè)計解決長短波元素的技術(shù)問題；
4、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用
5、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；
6、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
7、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；
8、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；
9、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點：
1、可測定包括痕量碳（C）、磷（P）、硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鉻基、鈦基、鎂基、鋅基、錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范 圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用最短的時間達(dá)到最優(yōu)的分析效果；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性極佳；
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的 像素位置進(jìn)行測定；
6、開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源系統(tǒng)及控制系統(tǒng)等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進(jìn)口，保證了儀器優(yōu)秀卓越的品質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)：
主要特點：
1、可測定包括痕量碳（C）、磷（P）、硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鉻基、鈦基、鎂基、鋅基、錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范 圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用最短的時間達(dá)到最優(yōu)的分析效果；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性極佳；
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的 像素位置進(jìn)行測定；
6、開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源系統(tǒng)及控制系統(tǒng)等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進(jìn)口，保證了儀器優(yōu)秀卓越的品質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)：
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光學(xué)系統(tǒng)
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光學(xué)結(jié)構(gòu)
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帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
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光室溫度
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自動控制恒溫：35℃±0.5℃
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波長范圍
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140-800nm
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光柵焦距
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350 mm
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光柵刻線
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3600 l/mm
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一級光譜線色散率
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1.2 nm/mm
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探測器
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多塊高性能線陣CCD
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平均分辨率
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10pm/pixel
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激發(fā)臺
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氣 體
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沖氬式
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氬氣流量
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激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量
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電 極
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鎢材噴射電極技術(shù)
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吹 掃
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點擊自吹掃功能
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補 償
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熱變形自補償設(shè)計
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分析間隙
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樣品臺分析間隙：4mm
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激發(fā)光源
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類 型
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HEPS數(shù)字化固態(tài)光源
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頻 率
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100-1000Hz
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放電電流
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1-80A
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特殊技術(shù)
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放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計
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預(yù) 燃
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高能預(yù)燃技術(shù)
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數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
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處理器
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高端ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理
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接 口
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基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸
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電源與環(huán)境要求
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輸 入
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220VAC 50Hz
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功 率
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分析時最大700W，待機狀態(tài)40W
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工作溫度
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10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）
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工作濕度
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20-80%
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尺寸與重量
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主機尺寸
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800*750*500 mm
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重 量
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85Kg
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CX-9800(L)可選機型：
